鹽霧腐蝕試驗箱實驗水溶液要用氧化鈉和水開展配制，金屬材料的鹽霧腐蝕屬電化學(xué)反應(yīng)，鹽中殘渣的是多少對鹽霧測試結(jié)果有非常大危害，如：NaI過多時，無形之中會提升金屬材料間的電勢差或使金屬材料產(chǎn)生維護(hù)表層，進(jìn)而危害金屬材料腐蝕深度;Cu、Ni正離子具備加快腐蝕和影響實驗結(jié)果的功效，尤其是Ni涂層、Cr涂層，與具體標(biāo)準(zhǔn)下個人所得結(jié)果的可比性差，使中性化鹽霧測試的可信性較差，因而務(wù)必嚴(yán)控Cu、Ni殘渣成分。
 

 

　　德國大眾和荷蘭PSA的操縱內(nèi)容大概非常，僅僅殘渣的總摩爾質(zhì)量各有不同，二者之間的關(guān)聯(lián)等同于分析純NaCl與優(yōu)級純NaCl的差別。

 

　　日產(chǎn)規(guī)范的內(nèi)容與現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)的GB1266-2006《化學(xué)試劑氯化鈉》大概非常，但GB1266-2006僅對碘化物有規(guī)定，對Cu、Ni則無規(guī)定。日產(chǎn)規(guī)范對鹽霧腐蝕試驗箱自來水的規(guī)定極為嚴(yán)苛，其自來水規(guī)范等同于GB/T6682-2008《分析實驗室用水規(guī)格和試驗方法》規(guī)范中的二級水。這與日產(chǎn)對NaCl中殘渣成分的規(guī)定比較肥款、必須嚴(yán)格控制水里的導(dǎo)電率相關(guān)。這類嚴(yán)苛的實驗自來水標(biāo)準(zhǔn)可能大大增加應(yīng)用日產(chǎn)規(guī)范的鹽霧測試成本費。